Quantitative evaluation of DUV-induced absorption in CsLiB 6 O 10 under focused-beam irradiation
Ryunosuke Oura, Tomoaki Nambu, K. Morita, Ryota Murai et autres
Nigéria, de, jp (code pays fourni par la source)
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Optics Express
Gigaphoton Inc (Japan)
Oyama, JP, company
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High-Throughput Fabrication of Glass Micro-Vias Through a Direct Laser Ablation Process Utilizing a DOE and an Optimized KrF Excimer Laser
Yasufumi Kawasuji, Akira Suwa, Masanori Teramoto, Tomonari Tanaka et autres
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IMAPSource Proceedings
Fast Laser Drilling on SiC-CMC Using Hybrid ArF Excimer Laser
Takashi Onose, Hironori Igarashi, Hiroaki Motosugi, Atsushi Fuchimukai et autres
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Development of Pulse-Shape-Controlled Hybrid ArF Excimer Laser
Hironori Igarashi, Atsushi Fuchlmukai, Yasuhiro Kamba, Yasuaki Moriai et autres
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Improvement of Beam Ellipticity and Amplification Efficiency of Two Side Cooled Yb:YAG Thin Rod Using Atomic-Diffusion-Bonding
Yasuhiro Kamba, Ryo Kageyama, Atsushi Fuchimukai, Taisuke Miura et autres
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Demonstration of low contact resistance in SiC using high-repetition-rate KrF excimer laser irradiation
Kaname Imokawa, Yohei Tanaka, Keita Katayama, Hisato Yabuta et autres
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Applied Physics A
Sn doping into β-Ga2O3 by a KrF excimer laser
Yohei Tanaka, Keita Katayama, Hisato Yabuta
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Applied Physics A
Simultaneous multi-point glass processing using diffractive optical element and KrF excimer laser
Akira Suwa, Tomonari Tanaka, Yasuhiro Adachi, Yasufumi Kawasuji
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Micro-via processing in glass material using long pulse KrF excimer laser for semiconductor interposer packaging
Yasufumi Kawasuji, Akira Suwa, Yasuhiro Adachi, Tomonari Tanaka et autres
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Improvement of LWR/LER in ArFi lithography by optimization of resist formulation and laser E95
Toshihiro Kobayashi, Koichi Fujii, Takamitsu Komaki, T. Kumazaki et autres
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Plasma dynamics and future of LPP-EUV source for semiconductor manufacturing III
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Enhancement on productivity and sustainability with the world’s first 6 kHz KrF light source G65K
Takashi Shiga, Yuuki Takeda, Daisuke Tei, Hideyuki Ochiai et autres
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