Development of Pulse-Shape-Controlled Hybrid ArF Excimer Laser
Rattachement africain : us, jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Deep ultraviolet (DUV) lasers are actively used for micromachining and semiconductor lithography. Using all-solid-state DUV light source as a seed laser and amplifying by ArF excimer (hybrid laser), high average power as well as high beam quality can be realized in the DUV region [1]. To perform appropriate processing for various materials, optimization of processing parameters is essential. Particularly, the laser pulse shape is an important parameter. We are developing a pulse-shape-controlled hybrid ArF laser based on the variable pulse shape solod-state DUV seed source.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Development of Pulse-Shape-Controlled Hybrid ArF Excimer Laser
- Date Crossref
- 23/06/2025
- Éditeur
- IEEE
- Type
- proceedings-article
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Les institutions déclarées
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