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2026 article

Annealing ambient engineering for tuning forward conduction and reverse blocking in Ni/(Al0.4Ga0.6)2O3/4H-SiC heterojunction diodes

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Rattachement africain : kr, tw. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Annealing ambient engineering for tuning forward conduction and reverse blocking in Ni/(Al0.4Ga0.6)2O3/4H-SiC heterojunction diodes
Date Crossref
01/09/2026
Éditeur
Springer Science and Business Media LLC
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Kwangwoon University Department of Electronic Materials Engineering pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • National Taiwan University Department of Engineering Science and Ocean Engineering pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure

Department of Electronic Materials Engineering — Kwangwoon University et Department of Engineering Science and Ocean Engineering — National Taiwan University.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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