2026 conference-paper

Backside Contact Resistivity Reduction for Nanosheet Technologies Beyond 2nm by Backside Nanosecond Laser Anneal Without Impacting the Frontside Cu BEOL

Ruilong Xie, Kevin Brew, Wonkeun Chung, Oleg Gluschenkov, 이종진, Chen Zhang, Nirmaan Shanker, Debarghya Sarkar, Haojun Zhang, Huai Huang, Koichi Motoyama, ByoungHoon Kim, Sangshin Jang, WuKang Kim, Dominic Picciocca, Yasir Sulehria, W.K. Lo, Michael Gribelyuk, Sarabjot Singh, Hosadurga Shobha, Fabio Carta, Richard Johnson, S. Reboh, Shogo Mochizuki, Erik Milosevic, Tao Li, Kishore Natarajan, Su Chen Fan, Tenko Yamashita, Kisik Choi, Dechao Guo, Kang-Ill Seo, Huiming Bu

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Titre Crossref: Backside Contact Resistivity Reduction for Nanosheet Technologies Beyond 2nm by Backside Nanosecond Laser Anneal Without Impacting the Frontside Cu BEOL
Date Crossref: 14/06/2026
Éditeur: IEEE
Type: proceedings-article

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