Parallel gap resistance soldering based on epitaxial growth: A strategy for achieving intermetallic-free and damage-free micro-joining
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- Titre Crossref
- Parallel gap resistance soldering based on epitaxial growth: A strategy for achieving intermetallic-free and damage-free micro-joining
- Date Crossref
- 01/06/2026
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Shanghai Jiao Tong University pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Materials Science and Engineering Shanghai Key Laboratory of Materials Laser Processing and Modification pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Shanghai Institute of Space Power Sources pays non établi dans la noticeStructure de recherche
Shanghai Jiao Tong University, Shanghai Key Laboratory of Materials Laser Processing and Modification — School of Materials Science and Engineering et Shanghai Institute of Space Power Sources.
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