High-Pressure Sputtering Deposition and in Situ Plasma Oxidation of Tiox Thin Films as Electron Selective Contact for Photovoltaic Applications
0Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
1Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés
Rattachement africain : es. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- High-Pressure Sputtering Deposition and in Situ Plasma Oxidation of Tiox Thin Films as Electron Selective Contact for Photovoltaic Applications
- Date Crossref
- 01/01/2024
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- posted-content
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
-
Universidad Complutense de Madrid pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
-
Independent - affiliation not provided to SSRN pays non établi dans la noticeInstitution
Universidad Complutense de Madrid et Independent - affiliation not provided to SSRN.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
Les sujets associés
Chalcogenide Semiconductor Thin FilmsSemiconductor materials and interfacesElectron and X-Ray Spectroscopy Techniques