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2021 conference-paper

28nm CIS-Compatible Embedded STT-MRAM for Frame Buffer Memory

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Rattachement africain : kr. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

We demonstrate embedded STT-MRAM fully integrated onto 28nm CIS logic platform, highlighting the world-best macro density of 13.94 Mb/mm2. The macro provides 55% area saving over 28nm SRAM. The MTJ processes are compatible with standard 3D-stacked CIS integration processes that require sufficient 400°C heat budget. The MTJ stack has also been improved for frame buffer applications, achieving write speed1E10 cycles. Furthermore, we have confirmed scalability of the CIS-compatible MTJ processes beyond 28nm. With advanced MTJ patterning processes, we have verified that MTJ short failure rate can be suppressed below 1ppm even at a 40% smaller pitch as compared to the current MTJ pitch at 28nm. This result reveals that our frame-buffer STT-MRAM technology is scalable to 14nm FinFET node.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
28nm CIS-Compatible Embedded STT-MRAM for Frame Buffer Memory
Date Crossref
11/12/2021
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Samsung (South Korea) pays non établi dans la notice
    Entreprise
  • Hwaseong Samsung Electronics Co. pays non établi dans la notice
    Organisation à but non lucratif
  • Samsung Electronics Co. pays non établi dans la notice
    Institution
  • Foundry Business pays non établi dans la notice
    Institution

Samsung (South Korea), Samsung Electronics Co. — Hwaseong et Samsung Electronics Co., avec 1 autre affiliation.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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