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2001 article

Proton Irradiation Effects on Standard and Oxygenated Silicon Diodes

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2Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : it. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Silicon diodes fabricated on oxygenated and standard (not oxygenated) silicon substrates, processed by different manufactories, have been irradiated for the first time by 34 MeV protons and for comparison by 24 GeV protons. The substrate oxygenation improves the radiation hardness of the devices by decreasing the acceptor introduction rate (beta) for both low and high energy proton irradiations. Anyway standard diodes from one manufactory present a beta value close to the oxygenated devices not only at 34 MeV but even at 24 GeV where the oxygenation effect is large. This suggests that also the processing plays an important role in the substrate radiation hardening.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Proton Irradiation Effects on Standard and Oxygenated Silicon Diodes
Date Crossref
01/11/2001
Éditeur
Trans Tech Publications, Ltd.
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Radiation Effects in ElectronicsSilicon and Solar Cell TechnologiesSemiconductor materials and devices

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