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Profil bibliographique

Chung-Chun Hsu

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Les publications récentes

2018 article OpenAlex

Integration of microwave-annealed oxidation on germanium metal-oxide-semiconductor devices

Chung-Chun Hsu, Wei-Chun Chi, Ming-Li Tsai, Shin-Yuan Wang et autres

In this paper, a method that entails using microwave thermal oxidation to form a high-quality gate dielectric on Ge through surface passivation at considerably low temperatures (<400 °C) is presented. Formation of the GeOx layer was confirmed by x-ray photoelectron spectroscopy. To …

tw (code pays fourni par la source)

3 citations Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena
Accès ouvert 2015 article OpenAlex

Microwave Annealing for NiSiGe Schottky Junction on SiGe P-Channel

Yu-Hsien Lin, Chung-Chun Hsu, Guang-Li Luo, Yao‐Jen Lee et autres

In this paper, we demonstrated the shallow NiSiGe Schottky junction on the SiGe P-channel by using low-temperature microwave annealing. The NiSiGe/n-Si Schottky junction was formed for the Si-capped/SiGe multi-layer structure on an n-Si substrate (Si/Si0.57Ge0.43/Si) through microwave annealing (MWA) ranging from 200 …

tw (code pays fourni par la source)

2 citations Materials

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