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2025 article

van Hove Source for Ultralow Power Field-Effect Transistors

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Rattachement africain : cn, pl, fi. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Field-effect transistors (FETs) with sub-60 mV/decade subthreshold swing (SS) at room temperature are highly sought after for enabling next-generation ultralow-power integrated circuits (ICs). We present a van Hove source (VHS) FET that exploits the steeply declining density of states (DOS) at the van Hove singularity in a one-dimensional (1D) semiconductor to overcome the Boltzmann limit on switching performance in conventional FETs. The VHS FETs built on individual semiconducting carbon nanotubes (CNT) exhibit a room temperature SS of 49 mV/decade. This steep switching behavior is achieved by electrostatically tuning the source Fermi level through a control gate. Compared with the 22-nanometer-node silicon FETs, a comparable on-state current is obtained in our VHS FETs with a 450 nm gate length but at a reduced supply voltage of 0.5 V (versus 0.75 V for silicon). VHS engineering may offer a generalizable pathway for 1D semiconductors to lower SS and even construct steep-slope transistors that simultaneously deliver ultralow power, high performance, and scalability.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
van Hove Source for Ultralow Power Field-Effect Transistors
Date Crossref
17/12/2025
Éditeur
American Chemical Society (ACS)
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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