Oblique illumination line confocal imaging with adjustable aperture for wafer defect detection
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Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Oblique illumination line confocal imaging with adjustable aperture for wafer defect detection
- Date Crossref
- 01/02/2026
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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Wuhan University of Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Huazhong University of Science and Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Transportation and Logistics Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Semiconductor Laser Equipment Industry Innovation Joint Laboratory pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Wuhan Huagong Laser Engineering Co. pays non établi dans la noticeOrganisation à but non lucratif
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School of Mechanical Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Wuhan University of Technology, Huazhong University of Science and Technology et School of Transportation and Logistics Engineering, avec 3 autres affiliations.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
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