2025 conference-paper

Patterning stack and process co-optimization for <24P high-NA EUV lithography

Indira P. Seshadri, Christopher Penny, Zheng Chen, Nicholas Latham, Dominik Metzler, Yasiel Cabrera, Belle Antonovich, Scott D. Halle, Martin Burkhardt, Shravan Matham, Jed H. Rankin, Luciana Meli

1Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité

1Institutions déclarées

1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé, mais le titre doit être comparé manuellement.

Titre Crossref: Patterning stack and process co-optimization for <24P high-NA EUV lithography
Date Crossref: 06/11/2025
Éditeur: SPIE
Type: proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

IBM Research - Thomas J. Watson Research Center pays non établi dans la notice
Structure de recherche
IBM Thomas J. Watson Research Ctr. (United States) pays non établi dans la notice
Institution

IBM Research - Thomas J. Watson Research Center et IBM Thomas J. Watson Research Ctr. (United States).

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Advancements in Photolithography TechniquesNanofabrication and Lithography TechniquesAdvanced Electron Microscopy Techniques and Applications

Consulter la publication primaire Ouvrir le DOI