High Quality Factor, High Sensitivity Ta 2 O 5 Microring Resonator for Biochemical Sensing
Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
We demonstrate a high-performance Ta.O. microring resonator fabricated using electron-beam lithography and inductively coupled plasma etching. The loaded Q-factor of the fundamental TE mode reaches 3.1 × 105at 1550 nm under ambient conditions, with post-annealing at 600$^{\circ }$C further elevating this value to 5.2 × 105. The waveguide propagation losses in the telecom band is also reduced from 1.3 dB/cm to 0.6 dB/cm with post annealing. For practical validation of sensing capabilities, the device was implemented in sodium chloride concentration detection, achieving a sensitivity of$\sim$279 nm/RIU and an intrinsic limit of detection (iLOD) of 1.78 × 10-5. RIU. This represents the first reported instance of such performance metrics in on-chip Ta2O5microring-based sensors. The synergistic combination of exceptional Q-factor, minimized optical loss, and enhanced detection sensitivity establishes this platform as a compelling candidate for next-generation integrated photonic sensing systems.
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé, mais le titre doit être comparé manuellement.
- Titre Crossref
- High Quality Factor, High Sensitivity Ta <sub>2</sub> O <sub>5</sub> Microring Resonator for Biochemical Sensing
- Date Crossref
- 15/11/2025
- Éditeur
- Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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Chinese Academy of Sciences pays non établi dans la noticeOrganisme public
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Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics Nanofabrication Facility pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Ningbo University Laboratory of Infrared Material and Devices pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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ShanghaiTech University pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Peking University pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Information Science and Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Electronics State Key Laboratory of Advanced Optical Communications Systems and Networks pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Chinese Academy of Sciences, Nanofabrication Facility — Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics et Laboratory of Infrared Material and Devices — Ningbo University, avec 4 autres affiliations.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.