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2025 article

Surface improvement of high temperature annealed Si-doped AlGaN layers

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Rattachement africain : my, de. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Surface improvement of high temperature annealed Si-doped AlGaN layers
Date Crossref
01/12/2025
Éditeur
Elsevier BV
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Universiti Sains Malaysia pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Ferdinand-Braun-Institut pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Institute of Nano Optoelectronics Research and Technology (INOR) pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

Universiti Sains Malaysia, Ferdinand-Braun-Institut et Institute of Nano Optoelectronics Research and Technology (INOR).

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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