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2025 conference-paper

Predictive Simulations and Experimental Study of AlN Bonding for Better Thermal Dissipation in BSPDN

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Rattachement africain : us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

As the backside power delivery network (BSPDN) technology evolves, optimizing bonding materials for both thermal management and integration remains critical. In this study, we explore the optimal thickness conditions and integration strategies for aluminum nitride (AlN) bonding through simulations and experimental validation. Simulations were conducted with realistic power densities, chip layout, and package structures to evaluate multiple combinations of oxide and AlN thickness options. While oxide bonding is limited in thermal dissipation by its thermal conductivity, reducing its thickness clearly improves performance. However, driving the bond oxide thickness down has a lot of integration challenges. Since AlN thermal performance is less sensitive to thickness, it can be a promising alternative. To assess AlN bonding integration a BSPDN test vehicle was used to study the characteristics of AlN crystallinity, its interfacial composition, its bond strength, interface quality, stresses from thermal mismatch, overlay (OVL) residuals, and overall integrability. These results establish a path to integrating AlN as a viable bonding material for BSPDN.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Predictive Simulations and Experimental Study of AlN Bonding for Better Thermal Dissipation in BSPDN
Date Crossref
02/06/2025
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • IBM Research - Thomas J. Watson Research Center pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Samsung Electronics Albany Nanotech Center pays non établi dans la notice
    Institution
  • TJ Watson Research Center pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

IBM Research - Thomas J. Watson Research Center, Samsung Electronics Albany Nanotech Center et TJ Watson Research Center.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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