2025 conference-paper

InP/Si Integrated Laser With High-Tolerance-Multi-Step-Long-Period Diffraction Grating

Jun‐ichi Suzuki, Masahiro Matsuura, Masakazu Takabahashi, Yosuke Suzuki, Nobuo Ohata

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1Institutions déclarées

1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

We demonstrated a C-band InP/Si integrated laser with a linewidth of about 200 kHz using an optical coupling structure: a high-tolerance-multi-step-long-period diffraction grating (MSLP-DG). This laser cavity was formed by high throughput passive alignment bonding technology by using MSLP-DG structure.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref: InP/Si Integrated Laser With High-Tolerance-Multi-Step-Long-Period Diffraction Grating
Date Crossref: 27/05/2025
Éditeur: IEEE
Type: proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Mitsubishi Electric (Japan)

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Photonic and Optical DevicesLaser Material Processing TechniquesAdvanced Optical Sensing Technologies

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