Aller au contenu principal
Accès ouvert déclaré 2025 article

Hidden structural phase transition assisted ferroelectric domain orientation engineering in Hf0.5Zr0.5O2 films

25Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
5Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

The polarization of HfO2-based ferroelectrics originates from the metastable orthorhombic phase formed during the tetragonal to monoclinic phase transition and is typically controlled by tuning the phase content. However, another way to control polarization via modulating ferroelectric domain orientations remains underexplored. This work uncovers a hidden tetragonal-orthorhombic phase transition pathway to engineer domain orientations and further polarization in polycrystalline Hf0.5Zr0.5O2 using single-crystalline TiN substrates. Specifically, (001)O and/or (010)O domains, which fully contribute to remanent polarization under an electric field, are controllable in Hf0.5Zr0.5O2 on TiN (001) and (111), enhancing remanent polarization compared to that on TiN (110). The key is the hidden transition from the tetragonal phase’s longest c-axis to the orthorhombic phase’s shorter bO/cO-axis, alongside the reported one to the longest aO-axis, assisted by periodic dislocations at the TiN/Hf0.5Zr0.5O2 interface. These findings shed light on governing the polarization of Hf0.5Zr0.5O2 films by controlling the interface dislocations and further domain orientations. The authors uncover a hidden tetragonal-orthorhombic phase transition pathway which provides an approach to engineer domain orientations and further remanent polarization in polycrystalline HfO2-based ferroelectric films.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Hidden structural phase transition assisted ferroelectric domain orientation engineering in Hf0.5Zr0.5O2 films
Date Crossref
07/05/2025
Éditeur
Springer Science and Business Media LLC
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Shanghai Jiao Tong University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Chinese Academy of Sciences pays non établi dans la notice
    Organisme public
  • Ningbo Institute of Industrial Technology pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Fudan University Institute of Optoelectronics pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • University of Science and Technology of China Department of Physics pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • School of Integrated Circuits Department of Micro/Nano Electronics pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

Shanghai Jiao Tong University, Chinese Academy of Sciences et Ningbo Institute of Industrial Technology, avec 4 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Ferroelectric and Negative Capacitance DevicesMXene and MAX Phase MaterialsFerroelectric and Piezoelectric Materials

BNTIC News n’est pas le producteur de ces données. Les publications sont interrogées à la demande dans Crossref, OpenAIRE, DOAJ, Europe PMC, HAL, DataCite, AfricArXiv, ROR et la Banque mondiale, sans clé d’accès. OpenAlex reste optionnel. Aucun service payant n’est nécessaire et aucune donnée externe n’est enregistrée en base. Consulter les sources et leurs limites.