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2025 article

Ga2Se3-based Ovonic Threshold Switching selector for high-density memory applications

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3Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Ga2Se3-based Ovonic Threshold Switching selector for high-density memory applications
Date Crossref
01/09/2025
Éditeur
Elsevier BV
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Chinese Academy of Sciences pays non établi dans la notice
    Organisme public
  • Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Shanghai Research Institute of Materials pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • National Key Laboratory of Materials for Integrated Circuits pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Shanghai University Materials Genome Institute pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure

Chinese Academy of Sciences, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology et Shanghai Research Institute of Materials, avec 2 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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