Aller au contenu principal
Accès ouvert déclaré 2025 article

Low‐Frequency Noise Spectroscopy for Navigating Geometrically Varying Strain Effects in HfO 2 Ferroelectric FETs

21Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
7Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : kr, us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Strain engineering has been widely employed to control and enhance the ferroelectric properties of hafnium oxide (HfO₂)-based thin films. While previous studies focused on the influence of the strain in simple metal-ferroelectric-metal structures, the integration of strain-induced ferroelectricity into field-effect transistors (FETs) requires consideration of geometrical factors, such as the interfaces between the channel and source/drain contacts, as well as device dimension. Here, we demonstrate strain effects in HfO₂-based ferroelectric FETs (FeFETs) with poly-Si channels via low-frequency noise (LFN) spectroscopy. LFN analysis reveals that the strain during the post-metal annealing introduces damage to channel interface with its severity depending on the device geometry. This strain-dependent behavior results in a unique noise characteristic, which we refer to as the reverse scaling effect, where noise increases with longer channel lengths-contrary to the conventional trend in typical FETs, where noise decreases with increasing channel length. Furthermore, we observe that while increased strain enhances ferroelectricity, it also degrades the electrical performance of poly-Si FeFETs, primarily through damage to the channel interfaces. These findings underscore the critical role of strain engineering in FeFETs and provide important guidelines for balancing strain effects to achieve optimal ferroelectricity and reliability in future device designs.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé, mais le titre doit être comparé manuellement.

Titre Crossref
Low‐Frequency Noise Spectroscopy for Navigating Geometrically Varying Strain Effects in HfO <sub>2</sub> Ferroelectric FETs
Date Crossref
02/04/2025
Éditeur
Wiley
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Seoul National University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Massachusetts Institute of Technology pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Sungkyunkwan University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Hanyang University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Sogang University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Konkuk University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Korea Institute of Science and Technology pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

Seoul National University, Massachusetts Institute of Technology et Sungkyunkwan University, avec 4 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Ferroelectric and Negative Capacitance DevicesMXene and MAX Phase MaterialsSemiconductor materials and devices

BNTIC News n’est pas le producteur de ces données. Les publications sont interrogées à la demande dans Crossref, OpenAIRE, DOAJ, Europe PMC, HAL, DataCite, AfricArXiv, ROR et la Banque mondiale, sans clé d’accès. OpenAlex reste optionnel. Aucun service payant n’est nécessaire et aucune donnée externe n’est enregistrée en base. Consulter les sources et leurs limites.