Development of PECVD SiN Thin Films for Integrated Photonic Applications on 300 mm Wafers
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Development of PECVD SiN Thin Films for Integrated Photonic Applications on 300 mm Wafers
- Date Crossref
- 01/01/2024
- Éditeur
- Springer Nature Switzerland
- Type
- book-chapter
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Center Nanoelectronic Technologies pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Leibniz Institute for Solid State and Materials Research pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Technische Universität Dresden pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Integrated Photonic Devices Laboratory pays non établi dans la noticeStructure de recherche
Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems, Center Nanoelectronic Technologies et Leibniz Institute for Solid State and Materials Research, avec 2 autres affiliations.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
Les sujets associés
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