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Accès ouvert déclaré 2023 article

Computational Study on the Parallel Double-Curling Probe for Multi-Site Electron Density Measurement in Low-Temperature Plasma

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Rattachement africain : kr. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Plasma diagnostics, especially electron density measurements, have attracted much attention as it promotes an understanding of plasma and its applications.In this study, a parallel double-curling probe, which consists of two individual curling slot antennae and one microwave input/output port, is demonstrated for multisite electron density measurements using three-dimensional electromagnetic wave simulations.We verify its step-by-step operation, including the demonstration of a single curling probe, double-curling probe, and parallel double-curling probe.For the single curling probe, we introduce a curling probe operation, while for the double-curling probe, we verify the operation of two curling probes with a single microwave input/output port.With respect to the parallel double-curling probe, simulation results indicate that it can measure the multi-site electron density above its individual curling-slot antenna.This study is applicable for the parallelization and multiplication of curling probes in the development of plasma uniformity sensors.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Computational Study on the Parallel Double-Curling Probe for Multi-Site Electron Density Measurement in Low-Temperature Plasma
Date Crossref
12/09/2023
Éditeur
The Korean Vacuum Society
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Chungnam National University Applied Physics lab for PLasma Engineering (APPLE) pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure

Applied Physics lab for PLasma Engineering (APPLE) — Chungnam National University.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

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