Nanoscale grating characterization using EUV scatterometry and soft x-ray scattering with plasma and synchrotron radiation
Rattachement africain : de. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Modern semiconductor structures reach sizes in the nanometer regime. Optical metrology characterizes test structures for the quality assessment of semiconductor fabrication. The limits of radiation to resolve nanometer structure sizes can be overcome by shortening the wavelength. The compact source extreme ultraviolet (EUV) scatterometer presented here characterizes samples in the EUV spectral range using plasma radiation. Reference measurements with synchrotron radiation are carried out using a beamline scatterometer. A comparison including Markov chain Monte Carlo sampling shows that the compact source and beamline setups can both determine the given dimensional parameters of a nanoscale grating with uncertainties in the sub-nanometer range. Grating characterization based on soft x ray scattering has increased accuracy.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Nanoscale grating characterization using EUV scatterometry and soft x-ray scattering with plasma and synchrotron radiation
- Date Crossref
- 19/12/2022
- Éditeur
- Optica Publishing Group
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Jülich Aachen Research Alliance pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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RWTH Aachen University pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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JARA—Fundamentals of Future Information Technology pays non établi dans la noticeInstitution
Jülich Aachen Research Alliance, RWTH Aachen University et JARA—Fundamentals of Future Information Technology.
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