Special Section Guest Editorial: Deep Learning
Rattachement africain : us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
The Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology (JM3) publishes peer-reviewed papers on the core enabling technologies that address the patterning needs of the electronics industry.
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Special Section Guest Editorial: Deep Learning for Lithography and Photomask Applications
- Date Crossref
- 15/12/2021
- Éditeur
- SPIE-Intl Soc Optical Eng
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
-
Dassault Systèmes (United States) pays non établi dans la noticeEntreprise
-
Inc. D2S pays non établi dans la noticeEntreprise
Dassault Systèmes (United States) et D2S — Inc..
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.