Dry-Etching Processes for High-Aspect-Ratio Features with Sub-10 nm Resolution High-χ Block Copolymers
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Le résumé fourni par la source
Directed self-assembly of block copolymers (BCP) is a very attractive technique for the realization of functional nanostructures at high resolution. In this work, we developed full dry-etching strategies for BCP nanolithography using an 18 nm pitch lamellar silicon-containing block copolymer. Both an oxidizing Ar/O 2 plasma and a nonoxidizing H 2 /N 2 plasma are used to remove the topcoat material of our BCP stack and reveal the perpendicular lamellae. Under Ar/O 2 plasma, an interfacial layer stops the etch process at the topcoat/BCP interface, which provides an etch-stop but also requires an additional CF 4 -based breakthrough plasma for further etching. This interfacial layer is not present in H 2 /N 2 . Increasing the H 2 /N 2 ratio leads to more profound modifications of the silicon-containing lamellae, for which a chemistry in He/N 2 /O 2 rather than Ar/O 2 plasma produces a smoother and more regular lithographic mask. Finally, these features are successfully transferred into silicon, silicon-on-insulator, and silicon nitride substrates. This work highlights the performance of a silicon-containing block copolymer at 18 nm pitch to pattern relevant hard-mask materials for various applications, including microelectronics.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Dry-Etching Processes for High-Aspect-Ratio Features with Sub-10 nm Resolution High-χ Block Copolymers
- Date Crossref
- 12/10/2021
- Éditeur
- American Chemical Society (ACS)
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Institut polytechnique de Grenoble pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Centre National de la Recherche Scientifique pays non établi dans la noticeOrganisme public
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Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives pays non établi dans la noticeOrganisme public
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CEA Grenoble pays non établi dans la noticeOrganisme public
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Laboratoire d'Électronique des Technologies de l'Information pays non établi dans la noticeOrganisme public
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Université Grenoble Alpes pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Université de Bordeaux pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Institut Polytechnique de Bordeaux pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Arkema (France) pays non établi dans la noticeEntreprise
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CNRS Univ. Grenoble Alpes pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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ARKEMA FRANCE pays non établi dans la noticeInstitution
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