Latent image characterization by spectroscopic reflectometry in the extreme ultraviolet
Rattachement africain : de. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
The authors present latent image characterization in photoresists by means of extreme ultraviolet (EUV) spectroscopic reflectometry. The optical constants of photoresists before and after exposure are measured in the EUV spectral range. Latent images are investigated in the form of periodic line gratings. The investigation is performed by the analysis of spectroscopic reflectance curves in the wavelength range from 5 nm to 20 nm at grazing incidence angles. Through an analysis of the reflectance curves based on rigorous electromagnetic modeling, a characterization of parameters of interest of the latent image is evaluated. This includes the latent image profile, surface topography and stochastic-related parameters such as line edge roughness.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Latent image characterization by spectroscopic reflectometry in the extreme ultraviolet
- Date Crossref
- 22/02/2021
- Éditeur
- SPIE
- Type
- proceedings-article
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Les institutions déclarées
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