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2018 conference-abstract

Stacked Source/Drain Electrode Structure of InGaZnO Thin-Film-Transistor for Low Contact Resistance and Suppressing Channel Shortening Effect

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Le résumé fourni par la source

2018 International Conference on Solid State Devices and Materials,Stacked Source/Drain Electrode Structure of InGaZnO Thin-Film-Transistor for Low Contact Resistance and Suppressing Channel Shortening Effect

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Stacked Source/Drain Electrode Structure of InGaZnO Thin-Film-Transistor for Low Contact Resistance and Suppressing Channel Shortening Effect
Date Crossref
13/09/2018
Éditeur
The Japan Society of Applied Physics
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les sujets associés

Thin-Film Transistor TechnologiesZnO doping and propertiesSemiconductor materials and devices

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