Aller au contenu principal
2019 article

A Self-Limited Atomic Layer Deposition of WS2 Based on the Chemisorption and Reduction of Bis(t-butylimino)bis(dimethylamino) Complexes

28Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
5Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : de, fr. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

A novel self-terminating chemical approach for the deposition of WS 2 by atomic layer deposition based on chemisorption of bis( t -butylimino)bis(dimethylamino)tungsten(VI) followed by sulfurization by H 2 S is reported. A broad spectrum of reaction parameters including temperatures of the reaction chamber and the precursor and durations of every atomic layer deposition (ALD) step are investigated and optimized to reach a high growth per cycle of 1.7 Å and a high quality of the deposited thin films. The self-terminating behavior of this reaction is determined by the variation of the dose of the precursors. Surface- and bulk-sensitive techniques prove that highly pure and well-defined WS 2 layers can be synthesized by ALD. Imaging methods show that WS 2 grows as platelets with a thickness of 6–10 nm and diameter of 30 nm, which do not vary dramatically with the number of ALD cycles. A low deposition temperature process followed by a postannealing under H 2 S is also investigated to produce a conformal WS 2 film. Finally, a reaction mechanism could be proposed by studying the chemisorption of bis( t -butylimino)bis(dimethylamino)tungsten(VI) onto silica and the thermal and chemical reactivities of chemisorbed species by small-molecule analyses.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé, mais le titre doit être comparé manuellement.

Titre Crossref
A Self-Limited Atomic Layer Deposition of WS<sub>2</sub> Based on the Chemisorption and Reduction of Bis(<i>t</i>-butylimino)bis(dimethylamino) Complexes
Date Crossref
26/02/2019
Éditeur
American Chemical Society (ACS)
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Humboldt-Universität zu Berlin pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Lyon 1 Université pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Centre National de la Recherche Scientifique pays non établi dans la notice
    Organisme public
  • Institut de Chimie de Lyon pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • École d'Ingénieurs en Chimie et Sciences du Numérique pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Institut für Chemie and IRIS Adlershof pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Institut für Physik and IRIS Adlershof pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Université de Lyon pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure

Humboldt-Universität zu Berlin, Lyon 1 Université et Centre National de la Recherche Scientifique, avec 5 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

2D Materials and ApplicationsZnO doping and propertiesTransition Metal Oxide Nanomaterials

BNTIC News n’est pas le producteur de ces données. Les publications sont interrogées à la demande dans Crossref, OpenAIRE, DOAJ, Europe PMC, HAL, DataCite, AfricArXiv, ROR et la Banque mondiale, sans clé d’accès. OpenAlex reste optionnel. Aucun service payant n’est nécessaire et aucune donnée externe n’est enregistrée en base. Consulter les sources et leurs limites.