Buried channel waveguides in plasma-enhanced chemical vapour deposited silicon oxynitride layers on silicon substrates, formed by electron-beam irradiation
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Buried channel waveguides in plasma-enhanced chemical vapour deposited silicon oxynitride layers on silicon substrates, formed by electron-beam irradiation
- Date Crossref
- 01/07/1991
- Éditeur
- Springer Science and Business Media LLC
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Imperial Consultants pays non établi dans la noticeEntreprise
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Imperial College London Department of Electrical Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Imperial Consultants et Department of Electrical Engineering — Imperial College London.
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