Aller au contenu principal
2001 article

A Positron Annihilation Study of Compensation Defects Responsible for Conduction- Type Conversions in LEC-Grown InP

0Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
3Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : hk, cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
A Positron Annihilation Study of Compensation Defects Responsible for Conduction- Type Conversions in LEC-Grown InP
Date Crossref
02/04/2001
Éditeur
Trans Tech Publications, Ltd.
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • University of Hong Kong pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Sichuan University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Hebei Semiconductor Research Institute pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

University of Hong Kong, Sichuan University et Hebei Semiconductor Research Institute.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Semiconductor materials and devicesRadio Frequency Integrated Circuit DesignAdvancements in Semiconductor Devices and Circuit Design

BNTIC News n’est pas le producteur de ces données. Les publications sont interrogées à la demande dans Crossref, OpenAIRE, DOAJ, Europe PMC, HAL, DataCite, AfricArXiv, ROR et la Banque mondiale, sans clé d’accès. OpenAlex reste optionnel. Aucun service payant n’est nécessaire et aucune donnée externe n’est enregistrée en base. Consulter les sources et leurs limites.