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2010 conference-paper

Fully integrated 54nm STT-RAM with the smallest bit cell dimension for high density memory application

92Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
2Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

A compact STT(Spin-Transfer Torque)-RAM with a 14F2cell was integrated using modified DRAM processes at the 54nm technology node. The basic switching performance (R-H and R-V) of the MTJs and current drivability of the access transistors were characterized at the single bit cell level. Through the direct access capability and normal chip operation in our STT-RAM test blocks, the switching behavior of bit cell arrays was also analyzed statistically. From this data and from the scaling trend of STT-RAM, we estimate that the unit cell dimension below 30nm can be smaller than 8F2.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Fully integrated 54nm STT-RAM with the smallest bit cell dimension for high density memory application
Date Crossref
01/12/2010
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

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