2009 article

Variation von nanostrukturiertem Silicium in DRIE-Tiefenätzprozessen zur Integration in Si-basierte MEMS

Thomas Wich, C. Stolle, Grenzschichtprobleme an Mikroelektroden, Uwe Pliquett, Thomas Nacke, D. Frense, D. Beckmann, Arndt Steinke, Christoph Dr.-Ing. Kremin, S. Leopold, M. Stuberauch, Martin Hoffmann, Jia Chen, T. Werner, T. Otto, Thomas Geßner, M. Wiemer, Fraunhofer Enas, S. Kuhn, Hochschule Heilbronn, Karsten Wolff, P. Dombert, Ulrich Hilleringmann, Jörg Bräuer, Martina Baum

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