Aller au contenu principal
2007 conference-paper

Bit Cost Scalable Technology with Punch and Plug Process for Ultra High Density Flash Memory

595Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
1Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

We propose Bit-Cost Scalable (BiCS) technology which realizes a multi-stacked memory array with a few constant critical lithography steps regardless of number of stacked layer to keep a continuous reduction of bit cost. In this technology, whole stack of electrode plate is punched through and plugged by another electrode material. SONOS type flash technology is successfully applied to achieve BiCS flash memory. Its cell array concept, fabrication process and characteristics of key features are presented.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Bit Cost Scalable Technology with Punch and Plug Process for Ultra High Density Flash Memory
Date Crossref
01/06/2007
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Toshiba (Japan) pays non établi dans la notice
    Entreprise
  • Semiconductor Company TOSHIBA Corporation pays non établi dans la notice
    Entreprise
  • Toshiba Corporation Yokohama pays non établi dans la notice
    Institution
  • Center for Semiconductor Research & Development and Process & Manufacturing Engineering Center pays non établi dans la notice
    Institution
  • Toshiba Information Systems (Japan) Corporation pays non établi dans la notice
    Institution

Toshiba (Japan), TOSHIBA Corporation — Semiconductor Company et Toshiba Corporation Yokohama, avec 2 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Semiconductor materials and devicesAdvancements in Semiconductor Devices and Circuit DesignAdvanced Surface Polishing Techniques

BNTIC News n’est pas le producteur de ces données. Les publications sont interrogées à la demande dans Crossref, OpenAIRE, DOAJ, Europe PMC, HAL, DataCite, AfricArXiv, ROR et la Banque mondiale, sans clé d’accès. OpenAlex reste optionnel. Aucun service payant n’est nécessaire et aucune donnée externe n’est enregistrée en base. Consulter les sources et leurs limites.