2006 article

Analysis of Large Particle Count in Fumed Silica Slurries and Its Correlation with Scratch Defects Generated by CMP

Edward E. Remsen, Sriram Anjur, David Boldridge, Mungai Kamiti, Shoutian Li, T. Johns, Charles Darren Dowell, Jaishankar Kasthurirangan, Paul Feeney

78Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité

1Institutions déclarées

1Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Analysis of Large Particle Count in Fumed Silica Slurries and Its Correlation with Scratch Defects Generated by CMP, Remsen, Edward E., Anjur, Sriram, Boldridge, David, Kamiti, Mungai, Li, Shoutian, Johns, Timothy, Dowell, Charles, Kasthurirangan, Jaishankar, Feeney, Paul

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref: Analysis of Large Particle Count in Fumed Silica Slurries and Its Correlation with Scratch Defects Generated by CMP
Date Crossref: 01/01/2006
Éditeur: The Electrochemical Society
Type: journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

Cabot Microelectronics (United States) pays non établi dans la notice
Entreprise
Cabot Microelectronics Corporation pays non établi dans la notice
Institution

Cabot Microelectronics (United States) et Cabot Microelectronics Corporation.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Advanced Surface Polishing TechniquesSurface Roughness and Optical MeasurementsAdvanced machining processes and optimization

Consulter la publication primaire Ouvrir le DOI