Gauge control for sub-170-nm DRAM product features
Rattachement africain : us. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
As modern circuit architecture features steadily decrease in size, more accurate tools are needed to meaningfully measure critical dimensions (CD). As a general rule, a metrology tool should be able to measure 1/10 of the product tolerance. As CD's continue to shrink, gauge control becomes more relevant. The trend is illustrated in Table 1. The standard in-line critical dimension measurement tool is the top-down scanning electron microscope (SEM). An emergine technology for high speed, high accuracy CD measurement is scatterometry. This paper will compare the two technologies for in-line CD measurement for three applications: A product etch step (assessing gauge capability as well as trending), a product resist step (trending), and lithographic cell monitors (trending).
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Gauge control for sub-170-nm DRAM product features
- Date Crossref
- 22/08/2001
- Éditeur
- SPIE
- Type
- proceedings-article
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Les institutions déclarées
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