Improved Defect Classification Techniques of a Laser Scattering Detection System for Post CMP Silicon Dioxide Wafers
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Improved Defect Classification Techniques of a Laser Scattering Detection System for Post CMP Silicon Dioxide Wafers
- Date Crossref
- 01/01/2007
- Éditeur
- Springer Science and Business Media LLC
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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Cabot Microelectronics (United States) pays non établi dans la noticeEntreprise
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R&D pays non établi dans la noticeInstitution
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Daniel_Mateja@cabotcmp.com pays non établi dans la noticeInstitution
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Toshi_kasai@cabotcmp.com pays non établi dans la noticeInstitution
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Michael_Denham@cabotcmp.com pays non établi dans la noticeInstitution
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Haresh_Siriwardane@cabotcmp.com pays non établi dans la noticeInstitution
Cabot Microelectronics (United States), R&D et Daniel_Mateja@cabotcmp.com, avec 3 autres affiliations.
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