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2004 conference-paper

Electrical defect SEM review under the various electric circumstances on SAC layer

1Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
2Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : kr, il. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Traditionally the defects, detected by inspection tools (optic & EBI), have been reviewed through DR-SEM or CD-SEM. Nevertheless, when physical defects are characterized using conventional in-line SEM it is hard to re-detect electrical defects because of the restricted working range in e-beam control. To detect and review electrical defects on contact layer EBI tools were used due to the in-line SEM limitation on electrical defect reviews. However the quality of the image was not acceptable to characterize type of defects due to its low resolution (20~30nm). In this article, the review condition of electrical defect was studied under the various electric conditions on Self Align Contact (SAC) layer. In order to achieve the optimum condition, a wide range of negative and positive conditions were applied using acceleration voltage, I-probe current, cap voltage and scan rate. Under stable weak negative charge conditions, 100% review of electrical and contact bottom defects were achieved. Furthermore, we found the high I-probe current and the appropriate acceleration voltage are main factors which increase the capability to re-detect the electrical defect. In this article, we figure out which defect is electrical defect and non-electrical defect applying to diverse electric conditions on the wafer.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Electrical defect SEM review under the various electric circumstances on SAC layer
Date Crossref
24/05/2004
Éditeur
SPIE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Advancements in Photolithography TechniquesElectron and X-Ray Spectroscopy TechniquesIntegrated Circuits and Semiconductor Failure Analysis

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