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Biqiu Liu

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Les institutions déclarées

Shanghai Huali Microelectronics (China)

Les domaines associés

Advanced Electron Microscopy Techniques and ApplicationsIntegrated Circuits and Semiconductor Failure AnalysisElectron and X-Ray Spectroscopy TechniquesNear-Field Optical Microscopy

Les publications récentes

2026 article OpenAlex

Improving optical critical dimension metrology via systematic screening of TEM reference data

Lin Du, Biqiu Liu, Zhenhao Chen, Xinyuan Mei et autres

BackgroundIn integrated circuit manufacturing, transmission electron microscopy (TEM) has long served as the golden reference for optical critical dimension (OCD) measurement. However, the reliability of TEM data is frequently challenged by the sample destructive preparation, and subjective human interpretation is usually affects …

cn (code pays fourni par la source)

0 citations Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology
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