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Profil bibliographique

Geunhak Kim

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Les domaines associés

Advanced Surface Polishing TechniquesAdvancements in Photolithography TechniquesIndustrial Vision Systems and Defect Detection

Les publications récentes

2014 conference-paper OpenAlex

Investigation on reticle heating effect induced overlay error

Mijung Lim, Geunhak Kim, Seo-Min Kim, Byounghoon Lee et autres

As design rule of semiconductor decreases continuously, overlay error control gets more and more important and challenging. It is also true that On Product Overlay (OPO) of leading edge memory device shows unprecedented level of accuracy, owing to the development of precision …

kr (code pays fourni par la source)

8 citations Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE

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