Electroluminescent photoresists extending lithographic scaling to OLEDs
Rattachement africain : ch, tw, au, fi. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Abstract The miniaturization of organic light-emitting diodes is critical for next-generation ultrahigh-resolution displays and integrated photonics 1–8 . However, traditional vacuum evaporation and inkjet printing methods are incompatible with the lithographic scaling processes that underpin silicon electronics 9–16 , hindering true monolithic integration with complementary metal–oxide–semiconductor circuits. Here we present electroluminescent photoresists synthesized via atom transfer radical polymerization that can be directly patterned by ultraviolet and electron-beam lithography. These multi-arm star polymers feature a core–shell architecture designed to embed the thermally activated delayed fluorescence emitters within a protective host shell, segregating them from the reactive photocrosslinking moieties on the surface. The site-specific isolation ensures that crosslinking reactions occur at the periphery, leaving the emissive cores intact and preserving high electroluminescence. We demonstrate robust processing orthogonality in sequential multilayer electroluminescent photoresist photolithography, enabling subdiffraction fluorescence nanopatterns with critical dimensions down to 110 nm. We validate their device performance with multicolour, ultraviolet-patterned organic light-emitting diodes exhibiting external quantum efficiencies exceeding 13%. These results not only pave the way for extending Moore’s law to organic optoelectronics but also unlock their potential for monolithic optoelectronic integration.
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Electroluminescent photoresists extending lithographic scaling to OLEDs
- Date Crossref
- 16/09/2026
- Éditeur
- Springer Science and Business Media LLC
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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ETH Zurich pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Institute for Chemical and Bioengineering pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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National Taiwan University of Science and Technology Department of Chemical Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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RMIT University pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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University of Helsinki pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Information Technology and Electrical Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Science pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Faculty of Science Department of Chemistry pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
ETH Zurich, Institute for Chemical and Bioengineering et Department of Chemical Engineering — National Taiwan University of Science and Technology, avec 5 autres affiliations.
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