A novel copper diffusion barrier based on in-situ electrochemically reduced graphene oxide
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- A novel copper diffusion barrier based on in-situ electrochemically reduced graphene oxide
- Date Crossref
- 22/08/2026
- Éditeur
- Springer Science and Business Media LLC
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Tianjin University of Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Hebei University of Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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School of Electronics and Information Engineering Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Device pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Tianjin University of Technology, Hebei University of Technology et Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Device — School of Electronics and Information Engineering.
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