In-situ nitrogen doping of vertical graphene via microwave plasma CVD on Cu foils for advanced electrochemical electrodes
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- In-situ nitrogen doping of vertical graphene via microwave plasma CVD on Cu foils for advanced electrochemical electrodes
- Date Crossref
- 19/08/2026
- Éditeur
- Springer Science and Business Media LLC
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Sejong University Department of Physics and Astronomy and Graphene Research Institute pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Cheorwon Plasma Research Institute pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Research Institute of Industrial Science and Technology pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Korea Institute of Science and Technology pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Institute of Advanced Composite Materials pays non établi dans la noticeStructure de recherche
Department of Physics and Astronomy and Graphene Research Institute — Sejong University, Cheorwon Plasma Research Institute et Research Institute of Industrial Science and Technology, avec 2 autres affiliations.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
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