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Residual stress measurement of physical vapor deposition (PVD) AlTiN thin films - a comparative study of x-Ray diffraction-, Raman spectroscopic and ring core method

Hilke Petersen, Arnd Heckemeyer, Bernd Breidenstein, Christoph Kahra, Sebastian Herbst, Finn Rümenapf, Nelson Filipe Lopes Dias, Nils Denkmann, Muhammad Tayyab, Benjamin Bergmann, Kai Donnerbauer, Frank Walther, Wolfgang Tillmann, Jörg Debus, Hans Jürgen Maier, Kirsten Bobzin

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