High-Mobility, Low-Loss ITO Films Enabled by Sequential ALD Pretreatment and Magnetron Sputtering
Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
We investigated atomic layer deposition pretreatment on magnetron-sputtered indium tin oxides. Via this composite process, we achieved an obvious increase in mobility and a significant reduction in extinction coefficient compared to conventional indium tin oxide.
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- High-Mobility, Low-Loss ITO Films Enabled by Sequential ALD Pretreatment and Magnetron Sputtering
- Date Crossref
- 01/01/2025
- Éditeur
- Optica Publishing Group
- Type
- proceedings-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Les institutions déclarées
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.