Meta-device for sensing subwavelength lateral displacement
Rattachement africain : hk, cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Accurate transverse displacement measurement is essential for precise mask-to-wafer positioning in lithography. While lateral displacement metrology has achieved nanometer-level precision, the limitations imposed by coherent state and grating challenge in-situ measurement speed and precision. Here, we introduce a two-photon state transverse displacement measurement method utilizing a polarization gradient metasurface by employing two-photon state interference. Compared with the classical method, our new method can experimentally reduce the number of detected photons to around 3% with equivalent precision. These attributes make the two-photon state polarization gradient metasurface approach highly suitable for integration with semiconductor lithography processes and show its promise in realizing equivalent measurement precision within notably shorter acquisition durations, providing a robust solution for next-generation transverse displacement measurement requirements.
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Meta-device for sensing subwavelength lateral displacement
- Date Crossref
- 12/01/2026
- Éditeur
- Springer Science and Business Media LLC
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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City University of Hong Kong Department of Electrical Engineering and State Key Laboratory of Optical Quantum Materials pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Harbin Institute of Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Ministry of Industry and Information Technology pays non établi dans la noticeOrganisme public
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Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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College of Engineering and Applied Sciences National Laboratory of Solid State Microstructures pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Department of Electrical Engineering and State Key Laboratory of Optical Quantum Materials — City University of Hong Kong, Harbin Institute of Technology et Ministry of Industry and Information Technology, avec 2 autres affiliations.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.