Novel Ru( ii )-photo-antibiotics for the development of infection-resistant mask coatings
Résumé fourni par la source
Four novel Ru(II)-photoantibiotics (Ru1-Ru4) were developed to produce infection-resistant self-cleaning mask coatings. These photoantibiotics eliminate bacterial infections by generating oxidative stress and photothermal effects upon exposure to visible light (400-700 nm) with tuneable surface hydrophobicity.
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Contrôle bibliographique ouvert
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- Titre Crossref
- Novel Ru( <scp>ii</scp> )-photo-antibiotics for the development of infection-resistant mask coatings
- Date Crossref
- 01/01/2026
- Éditeur
- Royal Society of Chemistry (RSC)
- Type
- journal-article
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Institutions déclarées
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