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2025 article

A High-Efficiency Fully Integrated GaN-on-Si Power Amplifier Using Drain Current Scaling Factor

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Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

This letter presents a novel broadband high-efficiency continuous inverse class-F (CCF–1) mode monolithic microwave integrated circuit (MMIC) power amplifier (PA) based on the drain current waveform amplitude scaling factor$\lambda $. To minimize the current clipping and efficiency reduction caused by the reactive extension parameter [$1-\gamma $sin($\theta $)] in CCF–1when$\vert \gamma \vert \gt 0.5$, a modified maximum efficiency admittance boundary can be determined at$\vert \gamma \vert \gt 0.5$through theoretical analysis of the impact of$\lambda $on CCF–1performance. A load-pull simulation is carried out to verify this theoretical result. Furthermore, a GaN-on-Si MMIC PA operating over 1.6−3 GHz is designed and fabricated based on proposed method. The measurement results show a drain efficiency (DE) of 52%−69% and an output power (Pout) of 34.8−36.6 dBm. When tested with a 100 MHz 64-quadrature amplitude modulation (QAM) signal at 2.4 GHz with an average Pout (Pavg) of 30 dBm, the PA achieves an adjacent channel power (ACPR), ratio (ACPR) of −35.3 dBc with a 32.6% average DE (DEavg) without using digital predistortion (DPD).

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
A High-Efficiency Fully Integrated GaN-on-Si Power Amplifier Using Drain Current Scaling Factor
Date Crossref
01/02/2026
Éditeur
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Xidian University pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • National Engineering Research Center of Wide Band-Gap Semiconductor and the School of Microelectronics pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • an) Technology Company Ltd. Galaxy Space (Yinhe Hangtian) (Xi&#x2019 pays non établi dans la notice
    Entreprise

Xidian University, National Engineering Research Center of Wide Band-Gap Semiconductor and the School of Microelectronics et Galaxy Space (Yinhe Hangtian) (Xi&#x2019 — an) Technology Company Ltd..

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