Synthesis of molecularly tunable, dual-reactive poly(4-hydroxystyrene)-based photoresists via anionic polymerization, sequential deprotection, and reprotection reactions
Rattachement africain : kr. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
The quantitatively introduced acetoxy and acetal groups in the controlled polymers can be selectively removed under basic and acidic conditions, respectively, enabling the formation of photoresists with precisely controlled compositions.
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Le contrôle bibliographique ouvert
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- Titre Crossref
- Synthesis of molecularly tunable, dual-reactive poly(4-hydroxystyrene)-based photoresists <i>via</i> anionic polymerization, sequential deprotection, and reprotection reactions
- Date Crossref
- 01/01/2025
- Éditeur
- Royal Society of Chemistry (RSC)
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Chungbuk National University pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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College of Engineering Department of Engineering Chemistry pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Chungbuk National University et Department of Engineering Chemistry — College of Engineering.
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