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Accès ouvert déclaré 2025 article

Orbital-mediated local symmetry in ScAlN probed by scandium K-edge XAFS

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6Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : cn, de. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Orbital-mediated local symmetry in ScAlN probed by scandium K-edge XAFS
Date Crossref
01/03/2026
Éditeur
Elsevier BV
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Chinese Academy of Sciences pays non établi dans la notice
    Organisme public
  • Shanghai Normal University Key Laboratory of Optoelectronic Material and Device pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Shanghai Institute of Applied Physics pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Shanghai Institute of Ceramics pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Key Laboratory of Interfacial Physics and Technology pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Key Laboratory of Multifunctional Nanomaterials and Smart Systems pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • State Key Laboratory of Functional Crystals and Devices pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

Chinese Academy of Sciences, Key Laboratory of Optoelectronic Material and Device — Shanghai Normal University et Shanghai Institute of Applied Physics, avec 6 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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