Perfectly Vertical Coupling with High-Efficiency Bi-Layer Grating Coupler for Thin Film SiN Technology
Rattachement africain : it, gb. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Thin-film Silicon Nitride (TFSiN) platforms are gaining increasing interest in the integrated optics community due to their broad transparency range and low propagation loss [1]. However, the limited thickness of the waveguides (typically from 40 nm to 200 nm) poses a number of challenges, especially when it comes to light coupling between on-chip structures and optical fibers. Indeed, the low index contrast between the TFSiN waveguides and the surrounding silicon dioxide makes the design of efficient grating couplers (GCs) challenging.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Perfectly Vertical Coupling with High-Efficiency Bi-Layer Grating Coupler for Thin Film SiN Technology
- Date Crossref
- 23/06/2025
- Éditeur
- IEEE
- Type
- proceedings-article
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Les institutions déclarées
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