Effect of coating density on plasma etch resistance and material loss of Y2O3 coatings
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Effect of coating density on plasma etch resistance and material loss of Y2O3 coatings
- Date Crossref
- 01/12/2025
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
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Où se fait cette recherche
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Yonsei University Department of Electrical and Electronic Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
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Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology Test and Reliability Center pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Ltd. LG Display Co. pays non établi dans la noticeEntreprise
Department of Electrical and Electronic Engineering — Yonsei University, Test and Reliability Center — Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology et LG Display Co. — Ltd..
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